1. 如何提高扫频精度,如何扫频方法选择? 为了提高扫频精度,首先要确保自适应求解收敛,然后,可以根据需求和不同扫频方法的特点选择扫频方法,以便得到精确的扫频结果。快速扫频(fast sweep)和插值扫频(interpolating sweep)对扫频的点数不敏感,适应于相对带宽较宽的扫频或多个频点扫频,能够显著缩短仿真时间,求解频率设定为扫频带宽的中心频率偏高(对于相对带宽较宽的插值扫频可适当调高求解频率,以使高频段取得较好的收敛);快速扫频可以将“Save Fields”选中,得到各个扫频点的场分布和辐射特性,而插值扫频仅能获得结构的矩阵参数。离散扫频是利用自适应求解后的网格剖分重新求解电磁场,其仿真时间与扫频点数成正比,一般适应于扫描频点数较少(小于10),或者需要得到不同频点的辐射特性时。 2. 如果进行扫频分析,那么,自适应求解的频点如何选取? 原则上,在进行快速扫频(Fast Sweep)时,应将自适应求解的频点设置在扫描频率范围中心处;在进行离散和插值扫频(Discrete,Interpolating)时,应将自适应求解的频点设置在大于或等于扫描频率范围中心处;对于具体的问题,我们应尽可能地将自适应求解的频点选择在我们所关注的频点或频率范围内,如对于带通滤波器,我们应将其设置在通带范围内。 3. 在求解辐射问题时,采用辐射边界条件和PML有何区别? PML 如何设置? 在求解辐射问题时,辐射边界条件和PML均可用来模拟开放的空间,其主要区别如下: 辐射边界一般应在离开辐射体 处进行设置,PML一般可在离开辐射体 处进行设置。PML相对辐射边界条件而言,对相同入射角的电磁波反射系数更小,因而在处理辐射问题时精度更高。辐射边界条件可以定义在任意形状的平面或曲面上,而PML一般只能针对规则的长方体形状的求解空间进行定义。在设置PML时,只需将长方体形状的求解空间的六个面同时选中,单击鼠标右键,并选择Assign Boundary PML Setup Wizard,之后在弹出的PML设置向导中填入最小辐射吸收频率等参数并完成即可,如图1.8所示。 4. 机箱屏蔽效能如何实现仿真?我的机箱通风上覆盖了网孔结构,孔径小,数量多,如何处理? 利用Radiation Boundary或PML边界条件,以及Incident Wave入射波激励等功能,HFSS能够方便地实现对机箱屏蔽效能的仿真,并可通过后处理,得到机箱的最佳屏蔽效能、最差屏蔽效能以及机箱内电场分布等关心的结果。对于机箱包含网孔结构的情况,若直接对其进行仿真计算,将会产生大量的网格,计算效率很低。利用Anisotropic impedance边界条件,能够将通风孔结构用边界条件链接的方式来代替,在保证精度的前提下显著提高计算效率,如图1.9所示。 5. 我想用HFSS设计PCB上的差分过孔,但是结构很复杂,HFSS有没有提供PCB过孔库? ANSYS公司能够提供一个小工具ViaWizard,自动生成各类过孔的结构模型并定义端口和边界条件,非常方便,能够在很短的时间内建立参数化的过孔模型,包括差分过孔。请联系您所在区域的ANSYS办事处获取相关程序。 |